PLAN53加壓冷卻方式：

利用壓力大于工藝流體和大氣壓力的阻隔流體注入密封室中，由于阻隔流體壓力大于工藝流體壓力，防止了工藝流體向阻隔流體的泄漏，從而有效地防止工藝流對大氣和環(huán)境的污染。

技術要求:

1、阻隔流體壓力至少比密封腔壓力高1-2公斤/厘米

2、阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質(zhì)相溶

3、阻隔流體的流向應與軸的旋向相同

適應場合：

易結晶或固化的介質(zhì)

易聚合介質(zhì)

常溫含顆粒的介質(zhì)